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磁控濺射鍍膜設(shè)備濺射方式

    目前市場(chǎng)上磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射方式有很多種,比如說(shuō)在使用中常見(jiàn)的二級(jí)濺射、三級(jí)濺射、四級(jí)濺射,以及磁控濺射,對(duì)向靶濺射......等多種。
    那么這些濺射方式有什么區(qū)別呢?下面我們來(lái)簡(jiǎn)單的介紹幾種濺射方式,以增加大家對(duì)磁控濺射鍍膜設(shè)備的認(rèn)識(shí)。
    二級(jí)濺射:磁控二級(jí)濺射的結(jié)構(gòu)是由一對(duì)陰極和陽(yáng)級(jí)所主城的冷陰級(jí)輝光放電管結(jié)構(gòu)。接通電源時(shí),其陰極靶上的負(fù)高壓在兩極之間產(chǎn)生輝光放電并且建立等離子區(qū)域,其中帶正電的的離子在陰極作用下,加速轟擊陰極靶,使其物質(zhì)表面濺射,最后以分子或者原子狀態(tài)下沉積基片表面,形成靶材鍍膜。

CCZK-EL電阻蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)(真空電鍍機(jī)系列)

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    三級(jí)濺射和四級(jí)濺射和二級(jí)濺射差不多,其主要區(qū)別是增加了一個(gè)電極,并且能夠在主閥全開(kāi)的狀態(tài)下制取高純度膜使其光熱電子強(qiáng)化放電,既能夠讓濺射速率提高,而且還能夠讓濺射工況控制更加方便。

    射頻濺射:這是一種60年代使用的射頻輝光放電,能夠從制取從導(dǎo)體到絕緣體的任意材料薄膜,在70年代得到普及。

磁控濺射鍍膜設(shè)備原理

    磁控濺射:磁控濺射是70年代發(fā)展的一種新型濺射技術(shù),在目前工業(yè)中被廣泛的使用,其具有高速、低溫、低損傷的優(yōu)點(diǎn)。缺點(diǎn)是靶材利用率不高,基本上低于40%。
......
    以上就是磁控濺射鍍膜設(shè)備的一些鍍膜方式。


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