多弧離子真空鍍膜機作為離子鍍膜機產品種類中的一種，電弧蒸發(fā)是離子鍍膜機的重要特點之一，多弧離子真空鍍膜機也不例外。
    電弧蒸發(fā)源礦業(yè)是Ti,AI,Zr,Cr等單相靶材，也可以是它們組成的多相靶材。多弧離子真空鍍膜機的應用非常寬廣，實用性能很強。除了有多種其他的離子鍍法外，尤其是在高速鋼切削工具及應用程序等超硬鍍TiN膜的快速發(fā)展，使得進入產業(yè)化階段。多弧離子真空鍍膜機是現(xiàn)在用于表面涂裝PVD膜層專用設備，通過自動化的邏輯程序設計控制操作。多弧離子真空鍍膜機的外觀簡單優(yōu)雅，設備內部結構設計合理穩(wěn)定，操作簡單易上手。多弧離子真空鍍膜機還具有環(huán)保節(jié)能的特點，是一款真正意義上的無三廢、無污染的清潔生產設備。
離子鍍膜機在光學上面的發(fā)展

上一篇：真空電鍍機的組成概念 下一篇：磁控濺射鍍膜設備制備的濺射薄膜的特點